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　　在半导体制造领域，氢气作为一种关键的工艺气体，广泛应用于外延生长、刻蚀、退火等诸多重要环节。半导体专用氢气发生器能够现场产生高纯度氢气，为半导体生产提供稳定气源，其正确使用对于保障生产质量与效率、确保安全生产意义重大。以下为您详细介绍其使用步骤。
 

　　一、使用前的准备工作
 

　　(一)设备检查
 

　　1.外观检查：仔细查看氢气发生器的外壳有无破损、变形，各部件连接是否牢固。确认仪器的 “O?” 口通畅无阻，加液口盖子已取下，方便后续注液操作。
 

　　2.配件核对：对照装箱单，逐一核对随机配件是否齐全，如电源线、管路、密封件、说明书、保修卡等，确保无遗漏。
 

　　3.内部检查：若设备允许，可打开部分外壳，检查内部电路布线是否规整，有无松动、短路迹象；查看电解槽、气路管道等关键部件是否有损坏、腐蚀等情况。
 

　　(二)环境准备
 

　　1.通风良好：选择通风系统完善的场所放置发生器，确保氢气泄漏时能及时排出，避免积聚形成爆炸危险。
 

　　2.远离热源与火源：发生器应与热源(如加热炉、蒸汽管道等)保持安全距离，周围严禁有明火、火花产生，如焊接作业、吸烟等行为。
 

　　3.稳定平整的安装面：将发生器放置在坚固、水平的工作台面上，防止设备运行时因震动发生位移、倾倒。
 

　　4.适宜的温湿度：环境温度控制在 0℃ - 40℃之间，相对湿度不超过 85%。温度过高可能影响设备散热与部件性能，湿度过大则易引发电气故障、腐蚀设备。
 

　　(叁)电解液准备(若为电解水制氢型发生器)
 

　　1.试剂选择：选用化学纯级别的氢氧化钾(碍翱贬)或氢氧化钠(狈补翱贬)作为电解质，确保其纯度与质量，杂质可能影响电解效率与氢气纯度。
 

　　2.溶液配制：按照设备说明书要求的浓度进行配制，一般常用浓度为 10% 左右。例如，将 160g 氢氧化钾溶解于 1600ml 蒸馏水中，用干净的玻璃棒搅拌均匀，待其充分溶解、冷却至室温备用。
 

　　3.水质要求：必须使用蒸馏水或去离子水配制电解液，长期使用含有杂质的普通水会对发生器造成不可逆的损害，影响氢气质量与设备寿命。
 

　　二、开机操作流程
 

　　1.连接电源：将符合设备电压要求的电源线插头插入发生器电源接口，确保插头插紧，无松动接触不良现象。同时，检查设备接地是否可靠，接地电阻应小于 [X] 欧姆，良好的接地能有效保障设备与人身安全。
 

　　2.密封输出口与自检：将仪器输出口的密封帽旋紧，接通电源开关。此时，观察仪器流量显示，若显示为 300ml/min 左右(不同型号可能略有差异)，表明仪器正在进行自检程序。在自检过程中，仪器会自动检测内部电路、气路、压力传感器等部件的工作状态。
 

　　3.自检异常处理：如果流量显示数字大于正常自检值，需立即停机，用皂液涂抹在输出口及各连接部位，检查是否有气泡产生，以判断是否存在漏气情况。若发现漏气，应紧固相应的密封螺帽或检查密封件是否损坏，必要时进行更换，直至自检合格。
 

　　4.连接用气设备：自检通过后，关闭电源，取下输出口密封帽，使用配套的管路将发生器与半导体工艺用气设备(或气体净化装置，若有)连接起来。确保管路连接紧密，无弯折、扭曲，使用卡箍或密封接头固定好，防止气体泄漏。
 

　　5.再次开机运行：重新打开电源开关，发生器进入工作状态，此时可观察到压力逐渐上升，流量显示也会根据实际产氢情况发生变化。等待设备运行稳定，压力与流量达到设定值后，即可为半导体工艺提供氢气。
 

　　叁、运行中的监控与维护
 

　　1.流量与压力监测：密切关注发生器的流量与压力显示仪表，确保流量与用气设备的实际用气量相匹配。若流量显示超出用气设备实际用量较多，可能存在气路泄漏，需及时停机，按照前文所述的检漏方法排查处理。同时，压力应稳定在设备设定的工作压力范围内(如 0.4MPa 左右，依型号而定)，压力异常波动可能预示着设备故障，如压力传感器故障、气路堵塞等，需及时检修。
 

　　2.电解液液位检查：定期查看电解液液位，当液位接近低位刻度线时，应及时补充二次蒸馏水。添加时注意液位不要超过上限刻度线，避免溶液溢出腐蚀设备。加水频率与氢气使用量、环境温度有关，使用频繁、温度较高时，补水间隔会相应缩短。
 

　　3.硅胶干燥剂检查与更换：氢气发生器通常配备有硅胶干燥剂用于干燥氢气，若发现过滤器中的硅胶由蓝色变为粉红色，说明硅胶已吸水潮解，当变色硅胶量达到 2/3 时，需及时更换。更换方法为：先切断电源，放净系统内氢气，逆时针拧松干燥筒并向上取出，拧下上端塑料密封盖，倒出潮解硅胶，装入新的干燥硅胶，放入棉花后拧紧密封盖，再将干燥筒复原拧入密封座，注意不要拧得过紧，保证密封即可。
 

　　4.设备运行状态巡检：每隔一定时间对设备进行巡检，倾听设备运行声音是否正常，有无异常振动、噪声；检查设备外壳温度是否过高，正常运行时设备外壳温度应在允许范围内，若发现异常，应立即停机检查原因，排除故障后方可继续运行。
 

　　四、关机及关机后的维护
 

　　1.正常关机操作：当半导体工艺不再需要氢气供应时，先关闭发生器与用气设备之间的阀门，然后按照设备操作规程关闭氢气发生器电源开关，切断电源。
 

　　2.设备清理：关机后，若发生器表面有灰尘、污渍，可用干净的软布擦拭，但注意不要使用有机溶剂，防止损坏设备外壳。对于长期使用后，加液口处可能出现的白色粉末(KOH 或 NaOH 结晶)，可用湿布轻轻擦拭去除。
 

　　3.电解液维护(长期停机时)：如果设备计划长时间停机，应将电解池内的电解液全部倒出，并用蒸馏水冲洗干净，防止电解液干涸、结晶，腐蚀设备内部部件。下次使用前，再重新配制并加注电解液。
 

　　4.定期维护保养：即使设备处于停机备用状态，也应定期(如每月一次)对其进行通电检查，让设备短暂运行一段时间，以保持各部件的良好性能，及时发现潜在故障隐患。同时，定期检查设备的管路、阀门、密封件等，如有老化、损坏迹象，及时进行更换，确保设备随时能够正常投入使用。